應(yīng)用領(lǐng)域
攪拌提拉爐（Agitation/Lifting Furnace）是一種用于高溫材料合成、晶體生長(zhǎng)和熔融處理的設(shè)備，主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

半導(dǎo)體行業(yè)：
- 用于單晶硅（Si）、砷化鎵（GaAs）等半導(dǎo)體材料的晶體生長(zhǎng)。
- 適用于CZ（直拉法）或FZ（浮區(qū)法）晶體生長(zhǎng)工藝。
光伏產(chǎn)業(yè)：
- 用于太陽(yáng)能級(jí)多晶硅、單晶硅的提純與拉晶。
特種材料制備：
- 高溫合金、氧化物晶體（如藍(lán)寶石、YAG激光晶體）的熔融與結(jié)晶。
- 高純金屬（如高純鋁、鈦合金）的熔煉。
科研實(shí)驗(yàn)：
- 新材料研發(fā)、高溫化學(xué)反應(yīng)、熔融態(tài)材料性能研究等。

技術(shù)特點(diǎn)
1.精密溫控系統(tǒng)
- 采用PID智能控溫，溫度穩(wěn)定性可達(dá)±0.5°C，滿足晶體生長(zhǎng)的嚴(yán)格需求。
- 可選配紅外測(cè)溫或熱電偶多段控溫。
2. 攪拌與提拉機(jī)構(gòu)
- 機(jī)械/磁力攪拌：確保熔體均勻性，避免成分偏析。
- 伺服電機(jī)提拉：速度可調(diào)（0.1~50 mm/min），實(shí)現(xiàn)晶體勻速生長(zhǎng)。
3. 高純材料爐膛
- 爐膛材質(zhì)：高純石英、氧化鋁或石墨，耐高溫（1800°C）、抗腐蝕。
- 真空/惰性氣體保護(hù)：防止材料氧化（如Ar、N₂環(huán)境）。
4. 自動(dòng)化與安全
- PLC或觸摸屏控制，預(yù)設(shè)工藝曲線，自動(dòng)記錄數(shù)據(jù)。
- 安全聯(lián)鎖：超溫?cái)嚯姟�氣壓�?bào)警、應(yīng)急冷卻系統(tǒng)。
5. 模塊化設(shè)計(jì)
- 加熱系統(tǒng)、氣路、控制系統(tǒng)獨(dú)立模塊，便于維護(hù)與升級(jí)。
6. 能效優(yōu)化
- 多層隔熱設(shè)計(jì)，減少熱損耗；可選高頻感應(yīng)加熱，提升能效。