應用領域
攪拌提拉爐（Agitation/Lifting Furnace）是一種用于高溫材料合成、晶體生長和熔融處理的設備，主要應用于以下領域：

半導體行業(yè)：
- 用于單晶硅（Si）、砷化鎵（GaAs）等半導體材料的晶體生長。
- 適用于CZ（直拉法）或FZ（浮區(qū)法）晶體生長工藝。
光伏產業(yè)：
- 用于太陽能級多晶硅、單晶硅的提純與拉晶。
特種材料制備：
- 高溫合金、氧化物晶體（如藍寶石、YAG激光晶體）的熔融與結晶。
- 高純金屬（如高純鋁、鈦合金）的熔煉。
科研實驗：
- 新材料研發(fā)、高溫化學反應、熔融態(tài)材料性能研究等。

技術特點
1.精密溫控系統
- 采用PID智能控溫，溫度穩(wěn)定性可達±0.5°C，滿足晶體生長的嚴格需求。
- 可選配紅外測溫或熱電偶多段控溫。
2. 攪拌與提拉機構
- 機械/磁力攪拌：確保熔體均勻性，避免成分偏析。
- 伺服電機提拉：速度可調（0.1~50 mm/min），實現晶體勻速生長。
3. 高純材料爐膛
- 爐膛材質：高純石英、氧化鋁或石墨，耐高溫（1800°C）、抗腐蝕。
- 真空/惰性氣體保護：防止材料氧化（如Ar、N₂環(huán)境）。
4. 自動化與安全
- PLC或觸摸屏控制，預設工藝曲線，自動記錄數據。
- 安全聯鎖：超溫斷電、氣壓報警、應急冷卻系統。
5. 模塊化設計
- 加熱系統、氣路、控制系統獨立模塊，便于維護與升級。
6. 能效優(yōu)化
- 多層隔熱設計，減少熱損耗；可選高頻感應加熱，提升能效。